[RicoElectrico]

To jest jakiś kosmos (ʘ‿ʘ)
Poprawa geometrii maski litograficznej poprzez "wypalanie" naprężeń laserem
#elektronika #optyka #mikroelektronika #mikrociekawostki #gruparatowaniapoziomu #elektroda

[makrofag74]

Eeeee..kosmos to był jak zobaczyłem maszynę do prześwietlania elektroniki w 3D. ( ͡° ͜ʖ ͡°)

[MilionoweMultikonto]

@RicoElectrico: to chyba wymaga poświęcenie jakiejś powierzchni maski?

[RicoElectrico]

@MilionoweMultikonto: no właśnie robi to wewnątrz materiału, w warstwie poniżej właściwego wzoru. Pewnie chodzi też o to, że głębia ostrości jest bardzo mała.
Już druga strona płytki z maską nie jest wyostrzona i tylko ta na której jest wzór musi być chroniona membraną (pellicle) zawieszoną centymetr nad nią.

[Polanin]

Pewnie chodzi też o to, że głębia ostrości jest bardzo mała.

@RicoElectrico: tak, można to zrobić tak, żeby powstał defekt tylko na określonej głębokości.

tylko ta na której jest wzór musi być chroniona membraną (pellicle) zawieszoną centymetr nad nią.

@RicoElectrico: tam chyba nie ma żadnej membrany?

[RicoElectrico]

@Polanin: dla masek EUV przez jakiś czas nie używano, ale normalnie są https://spie.org/publications/pm146_78_pellicles?SSO=1

[Polanin]

@RicoElectrico: A o tym przyznam, że nie słyszałem. W EUV nie ma maski przepuszczalnej, ale tam rzeczywiści taka membrana by zdała egzamin. Tyle, że nie ma materiału przepuszczalnego na tę długość fali. Podejrzewam, że nawet dając cienką membranę traciłoby się zbyt dużo energii ze źródła o tak czy inaczej niskiej intensywności. Ale do steppera jak znalazł. Do klasycznej już się nie nadaje.